ラピッドサーマルプロセス(Rapid Thermal Processing、RTP)とは?原理や特徴、用途について

フラッシュランプは、高強度な紫外線と赤外線をパルス発光する光源で、産業界において、例えば以下のような場合に用いられています:

  • フィルムを加熱することなく金属インクを焼結させたい場合
  • 光と同じくらい速く、高強度でUVを照射したい場合

発光スペクトルがUVから赤外線まであるインテリジェントなフラッシュランプは、これらのプロセスやラピッドサーマルプロセスで使用することができます。

ラピッドサーマルプロセスとは

ラピッドサーマルプロセスとは、数秒から数ミリ秒のタイムスケールで材料を高温に加熱する製造プロセスのことです。

このような瞬間または急速加熱には、高輝度ランプやレーザーがよく用いられます。

フラッシュランプの発光スペクトル
フラッシュランプの発光スペクトル

キセノンフラッシュランプは、160nm~1000nmの広帯域スペクトルで高いエネルギー出力を必要とするさまざまな工程で使用できます。光出力は、表面やコーティングの硬化、加熱、アニールのエネルギー源として使用することができます。フラッシュランプは、連続光源またはパルス光源として動作させることができ、パルス形状、時間、電流密度を変更することで、希望の波長範囲に対して出力を最大化し、最適なプロセス結果を得ることができます。

フラッシュランプの技術、システム設計、電力供給に関する専門知識、エネルギー密度の均質性予測という業界独自の組み合わせにより、エクセリタスノーブルライトのフラッシュランプは、お客様の急速熱処理の要件に最も効率的なカスタマイズソリューションを提供する理想的な立場にあります。

エクセリタスノーブルライトのキセノンフラッシュランプの特徴

  • UVからIRまでの発光スペクトル
  • 高いピークパルス電力 - Megawatt/cm2 (MW)
  • 短いパルス持続時間 - マイクロ秒 (us)
  • 速い繰り返し率 - キロヘルツ (kHz)
  • インスタントOn / Off サイクル
  • 低温基材上の高温プロセス
  • エネルギーモニター内臓
  • 容易なランプ交換
  • 最適なエネルギーのためのQRC©リフレクター
  • 高いスループット
  • 大面積照射可能
  • フレキシブルなオペレーティング・ソフト
  • 外部システムへの取り付け可能
  • 無害 (水銀フリー)

ラピッドサーマルプロセスの導入事例

キセノンランプで銅インクを高速かつ効率的に焼結。温度に敏感な基板にダメージを与えることなく、高導電性で安定した電子回路を形成することができます。

ご興味のある方は、ぜひ当社のケースストーリーをご覧ください。

LOPEC

エクセリタスノーブルライトのプリンテッドエレクトロニクス用フラッシュランプについてもっと知りたい方は、LOPEC 2017のビデオをご覧ください。

ラピッドサーマルプロセスの用途

プリンテッドエレクトロニクス
  • 金属酸化物の焼結
  • 急速加熱プロセス (RTP)
  • フラッシュランプアニーリング (FLA)
  • 太陽電池セルやモジュール試験
  • 硬化
  • 殺菌
  • 半導体プロセス